Publicaties

Skip Navigation Links.
Recent verschenen
Collapse per documenttypeper documenttype
Expand ECN rapportECN rapport
Expand Boek(hoofdstuk)Boek(hoofdstuk)
Expand Artikel vakbladArtikel vakblad
Expand Artikel wetenschap tijdschriftArtikel wetenschap tijdschrift
Collapse ConferentiebijdrageConferentiebijdrage
2018
2017
2016
2015
2014
2013
2012
2011
2010
2009
2008
2007
2006
2005
2004
2003
2002
2001
2000
1999
1997
1996
1995
1993
1992
1991
1990
Expand PresentatiePresentatie
Expand OverigOverig
Expand Externe notitieExterne notitie
Expand BrochureBrochure
Expand per Unitper Unit
Expand per Clusterper Cluster

Zoeken naar publicaties:
Beperk het zoeken tot de velden:

ECN publicatie:
Titel:
A high throughput PECVD reactor for deposition of passivating SiN layers
 
Auteur(s):
Soppe, W.J.; Duijvelaar, B.G.; Schiermeier, S.E.A.; Weeber, A.W.; Steiner, A.; Schuurmans, F.M.
 
Gepubliceerd door: Publicatie datum:
ECN Zonne-energie 1-5-2000
 
ECN publicatienummer: Publicatie type:
ECN-RX--00-021 Conferentiebijdrage
 
Aantal pagina's: Volledige tekst:
4 Download PDF  (111kB)

Gepresenteerd op: 16th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition, Glasgow, Scotland, 1-5 mei 2000.

Samenvatting:
A new high throughput PECVD reactor for deposition of passivating SiNlayers is presented. It is shown that the throughput of the reactor is easily upscalable to industrial demands of more than 1000 wafers/hr and that the deposited SiN layers have excellent surface- and bulk passivating properties. Solar cells with an efficiency of more than 14.5% have been made. 5 refs.


Terug naar overzicht.