|
Titel:
|
|
Silicon Nitride at High Deposition Rate by Hot-Wire Chemical Vapor Deposition as Passivating and Antireflection Layer on Multicrystalline Silicon Solar Cells
|
|
|
|
Auteur(s):
|
Weeber, A.W.; Rieffe, H.C.; Soppe, W.J.; Werf, C.H.M. van der; Goldbach, H.D.; Löffler, J.; Scarfó, A.; Kylner, A.M.C.; Stannowski, B.; Arnoldbik, W.M.; Rath, J.K.; Schropp, R.E.I.
|
|
|
|
Gepubliceerd door:
|
Publicatie datum:
|
|
ECN
Zonne-energie
|
1-8-2004
|
|
|
|
ECN publicatienummer:
|
Publicatie type:
|
|
ECN-RX--04-098
|
Conferentiebijdrage
|
|
|
|
Aantal pagina's:
|
Volledige tekst:
|
|
4
|
Niet beschikbaar.
|
Gepresenteerd op: 3rd International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, 23-27 augustus 2004.
Samenvatting:
Geen samenvatting beschikbaar.
Terug naar overzicht.