|
Titel:
|
|
Openbaar Eindrapport Advanced NanoLayers
|
|
|
|
Auteur(s):
|
Kessels, E.; Loo, B.H.W. van de; Sprey, H.; Weeber, A.W.
|
|
|
|
Gepubliceerd door:
|
Publicatie datum:
|
|
ECN
Zonne-energie
|
1-9-2015
|
|
|
|
ECN publicatienummer:
|
Publicatie type:
|
|
ECN-E--15-041
|
ECN rapport
|
|
|
|
Aantal pagina's:
|
Volledige tekst:
|
|
5
|
Download PDF
(174kB)
|
Samenvatting:
In het TKI project Advanced Nanolayers hebben ECN, TU/e en ASM samengewerkt aan dunne films en gerelateerde technologie voor kristallijn silicium zonnecellen. ASM is een Nederlandse machinebouwer voor de halfgeleiderindustrie en oriënteert zich tevens op de zonnecelmarkt. De Technische Universiteit van Eindhoven TU/e onderzoekt specifieke processen van de zonnecel fabricage (namelijk het passiveren van de gedoteerde oppervlaktes) op een fundamenteel niveau. ECN ontwerpt, modelleert en ontwikkelt cel concepten waarin alles geïntegreerd wordt. Dit project heeft een bijdrage geleverd aan de ontwikkeling van nieuwe processen, zoals oppervlakte passiverende lagen (films) met atoomlaagdepositie, om de zonnecelefficiëntie verder te verhogen.
De doelen van het project, zoals omschreven in het projectplan, zijn als volgt samen te vatten:
• Ontwikkeling van stacks die op een ASM reactor geproduceerd kunnen worden (twee nanolaagjes van verschillende materialen) voor oppervlakte-passivering van zonnecellen en onderzoek naar onderliggende werkingsprincipes.
• Nieuwe materialen voor de passivering van oppervlakken en voor de ontwikkeling van gepassiveerde contacten in zonnecellen.
• Gecontroleerde doping-profielen met behulp van ion-implantatie.
Terug naar overzicht.